文章来源:中国建筑工程总公司 发布时间:2012-11-09
近日,中国建筑工程总公司所属中建一局中标世界最先进10纳米级闪存生产线-西安三星半导体FAB厂房主体工程,建筑面积25万平米,合同金额近13亿元。 该工程位于陕西省西安市高新区,是国家重点工程,建成后将是世界最先进的10纳米级 NAND Flash(闪存)生产线。同时,该工程使用预制混凝土构件应用于大型高科技电子厂房建设中,使用量之大在中国尚属首次,为未来高科技厂房的建设提供了新思路,并对国内逐渐兴起的装配式结构的应用起了积极的推动作用。
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